Ideale per la preparazione di routine dei campioni, attraverso la deposizione automatica di metalli e grafite, per l’imaging SEM standard.

Compatto, robusto, economico e semplice da usare garantisce tempi di processo ridotti e risultati eccellenti.

Lo sputtering freddo e a grana fine viene ottenuto con una testa magnetron CC a bassa tensione molto efficiente per evitare effetti sulla superficie del campione.

Le funzioni automatiche di spurgo e perdita combinate con il controller di spessore ad alta risoluzione MTM-20 (opzionale), offrono un processo automatizzato per risultati di rivestimento conduttivo ottimizzati.