Sistemi di processo MBE e EBL

MBE (Molecular Beam Epitaxy) è una tecnica di deposizione utilizzata per la crescita di strati sottili di materiali cristallini su un substrato, mediante fasci molecolari in condizioni di ultra-alto vuoto. EBL (Electron Beam Lithography) è un metodo di litografia che utilizza un fascio di elettroni focalizzato per disegnare schemi estremamente dettagliati su una superficie, tipicamente per la produzione di dispositivi a scala nanometrica. Entrambi i processi sono fondamentali per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori avanzati.